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颅内埋置绝缘电极的制作和应用
技术与方法 | 更新时间:2024-01-17
    • 颅内埋置绝缘电极的制作和应用

    • Manufacture and application of the intracranial embedded insulated electrode

    • 重庆医科大学学报   2011年36卷第9期 页码:1080-1083
    • 作者机构:

      1. 第三军医大学学员旅三队

      2. 第三军医大学基础部教学实验中心

      3. 第三军医大学学员旅四队

    • DOI:10.13406/j.cnki.cyxb.2011.09.009    

      中图分类号: R338
    • 纸质出版日期:2011,

    扫 描 看 全 文

  • [1]吴广延,姚娟,张浪千,李轩,方舟,隋建峰.颅内埋置绝缘电极的制作和应用[J].重庆医科大学学报,2011,36(09):1080-1083. DOI: 10.13406/j.cnki.cyxb.2011.09.009.

    WU Guang-yan1, YAO Juan2, ZHANG Lang-qian2, et al. Manufacture and application of the intracranial embedded insulated electrode[J]. Journal of Chongqing Medical University, 2011,36(9):1080-1083. DOI: 10.13406/j.cnki.cyxb.2011.09.009.

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